A produção vai começar no final deste ano
Intel anunciou que no segundo semestre deste ano pretende começar aemitir processadores Cannonlake feitas pela avançada tecnologia de processo de 10 nm.
Os novos chips serão concluídos 100,8 milhões de transistores por milímetro quadrado. Para conseguir isso, a empresa utilizou um novo método de cálculo de transistores em um chip.
Intel acredita que a medição da distância física entre o portão e metalização contatos não corresponder ao necessário para descrever novas tecnologias de processo
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Por
exemplo, um novo chip Intel, tomada ao longo do processo FinFET de 10 nm, a
distância entre as portas é apenas 54 nm.
Em sua contagem Intel usa uma pequena e grande célula lógica densidade. A empresa utiliza uma célula com duas porta NAND de entrada com duas células de digitalização ativo e gatilho com 25 obturador ativo. Assim, os elementos NAND são tidos em conta com um fator de ponderação de 0,6, e desencadeia - 0,4.
Em sua contagem Intel usa uma pequena e grande célula lógica densidade. A empresa utiliza uma célula com duas porta NAND de entrada com duas células de digitalização ativo e gatilho com 25 obturador ativo. Assim, os elementos NAND são tidos em conta com um fator de ponderação de 0,6, e desencadeia - 0,4.
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Como
no caso do processo de 14 nm, a Intel pretende continuar A três anos mudanças
de tendências de tecnologia de processo. Assim, em 2018 e 2019 vai ser apresentada
ao tehprotsessy atualização ++ 10+ e 10, respectivamente.
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Intel também expressou características técnicas pormenorizadas
do novo 10-nm: O passo bordas FinFET - 34 nm, a altura da FinFET costelas - 53
nm, o chapeamento passo - 36 nm, o passo de portão - 54 nm, a altura da célula
- 272 nm.
Além disso, a Intel anunciou uma tecnologia de processo de
22 nm com eficiência energética com transistores FinFET.
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